任职要求：
1、硕士及以上学历，电子、微电子、光学、物理、集成电路等相关专业背景；
2、有超表面、超构透镜、衍射光波导等微纳光学相关领域研究或工作经历；
3、熟悉光刻工艺的原理，有ArF DUV光刻工艺和设备操作经验（有55nm及以下先进制程光刻工艺经验优先；有OPC应用经验优先）。
岗位职责：
1、负责超表面DUV光刻工艺技术开发，制定新工艺流程和方法，完成新技术节点，解决工艺薄弱点并进行设计优化；
2、负责超表面DUV光刻工艺的日常管理，包括工艺流程优化、解决生产中的异常问题、支持新工艺技术量产验证、推动工艺标准化和文档更新完善等；
3、负责OPC数据分析，OPC模型建立及验证，OPC程序建立及持续改进。