岗位职责:
1、开发和优化射频器件所需的T型栅极工艺,包括匀胶/曝光/显影工步等
2、优化光刻工艺参数,提高图形质量、线条均匀性,确保金属剥离无异常
3、与设备工程师密切合作,确保匀胶/曝光/显影设备的工艺性能满足要求
4、协助设备工程师制定设备工艺参数,参与设备验证和工艺验证
5、分析和解决栅极工艺相关的良率问题
6、与其他工艺模块工程师密切合作,确保光刻工艺与整体工艺的兼容性
7、领导安排的其他事宜;
岗位要求:
1、本科及以上学历,微电子学、电子工程、材料科学与工程、物理、化学工程、光学工程或相关理工科专业。
2、扎实的电子束光刻物理和化学知识,熟悉各种光刻工艺技术
3、了解砷化镓射频器件的工作原理和性能要求。
4、熟悉常见的光刻工艺分析和表征技术(如OVL、CD-SEM、FIB等)
具备基本的射频测试知识