职位描述
岗位职责:
1、曝光工艺开发与优化：
- 主导FMM黄光制程中的曝光工艺开发、优化与量产导入，聚焦接触式/接近式曝光技术。
- 精通曝光参数（能量、焦距、间隙Gap、对准精度、照明均匀性等）对CD、CDU、OVL的影响机理，设计并执行DOE实验进行精细化调优。
- 优化掩膜版（Reticle/Mask）管理及使用策略，减少因掩膜版导致的曝光缺陷和偏差。
- 探索并评估新型曝光技术或方案在FMM应用中的潜力。
- 2、曝光设备工艺能力维护与提升：
- 深入理解接触式/接近式曝光机（如SUSS MA/BA系列、EVG或其他同类设备）的工作原理、构造及性能极限。
- 负责曝光设备的工艺能力（Cp/Cpk）评估、监控（SPC）与持续提升。
主导或深度参与曝光机的日常工艺维护、校准（如光强均匀性校准、焦距校准、对准系统校准）及稳定性验证。
- 与设备工程师紧密合作，诊断并解决曝光设备硬件故障或性能下降对工艺造成的影响，提出有效的改善措施和预防性维护（PM）优化建议。
3、曝光相关缺陷分析与良率提升：
- 主导解决由曝光环节引起的各类缺陷和良率问题（如：CD偏差过大、CDU不良、套刻不良、曝光不良（Underexposure/Overexposure）、图形畸变、沾污、牛顿环等）。
- 运用8D、鱼骨图等工具进行根本原因分析（RCA），制定并落实CAPA。
4、工艺整合与跨部门协作：
- 与涂胶（Coating）、显影（Development）等前/后道工艺工程师紧密协作，确保整个黄光制程的匹配性与稳定性，特别关注胶厚均匀性、前烘/后烘条件对曝光效果的影响。
- 与量测（Metrology）团队合作，优化曝光关键参数的监控方案（如在线/离线CD量测、OVL量测）。
5、文档、培训与新技术：
- 建立、维护和更新曝光工艺的SOP、控制计划及技术文档。
- 对生产和技术人员进行曝光工艺原理、操作规范及问题处理的基础培训。
6、完成领导交办的其他相关工作事项。
任职要求 :
1、教育背景：
- 本科及以上学历，微电子、光学工程、物理、精密仪器、机械工程、材料科学与工程、自动化等相关专业优先。
2、工作经验：
- 5年及以上半导体、显示面板（OLED FMM 经验尤佳）、MEMS或高精度光刻行业的黄光/光刻工艺经验。
- 必须具备3年以上深度接触/接近式曝光工艺开发、优化及设备维护的实战经验。 有FMM行业曝光经验者高度优先。
3、核心技能 (曝光重点)：
- 精通曝光原理与技术： 深刻理解接触式/接近式曝光的光学原理（柯勒照明、部分相干性、衍射效应等）、成像机理及其在FMM图形化中的应用。
- 熟练掌握主流接触式/接近式曝光机（如SUSS MA/BA, EVG等）的操作、日常工艺维护、校准（光强、焦距、对准）及故障排查。
- 深入理解设备关键模块（光源系统、对准系统、聚焦系统、掩膜台/晶圆台、控制系统）及其对工艺的影响。
- 参数优化与数据分析： 精通曝光参数（Energy, Focus, Gap等）优化方法；熟练运用DOE、SPC、FMEA等工具进行数据分析和工艺控制。
- 精密量测与缺陷分析： 熟悉CD-SEM、OVL量测设备、显微镜等在曝光工艺评估中的应用；具备较强的缺陷识别和根源分析能力。
- 掩膜版知识： 了解掩膜版制作、使用、维护及其对曝光质量的影响。
4、软技能：
- 积极主动，能承受压力，具备良好的动手能力和现场快速响应能力。
5、语言能力：
6、身体健康，无犯罪记录。
优先考虑条件
- 拥有特定品牌曝光机（如SUSS, EVG）的深度操作、维护或工艺支持经验。
- 熟悉激光干涉仪等精密测量仪器在曝光机校准中的应用。
- 熟悉AutoCAD或相关绘图软件用于简单版图查看或问题分析。
以担保或任何理由索取财物，扣押证照，均涉嫌违法，请提高警惕