（一）岗位职责：
1. 光刻工艺维护与优化：
· 负责佳能（Canon） 和尼康（Nikon） 等品牌光刻机的日常工艺监控、维护及优化，确保机台处于最佳工作状态。
· 监控光刻关键工艺参数（如CD、OVL、Defect等），分析工艺数据波动，及时实施改进措施，确保工艺稳定性和产品良率。
· 主导或参与光刻工艺配方的建立、调试和优化，包括但不限于曝光剂量、焦距、显影条件等。
2. 生产技术问题解决：
· 快速诊断并解决生产线遇到的各种光刻相关异常和难题（如缺陷、对准偏差、线宽不均等）。
· 处理机台宕机等紧急状况，协同设备工程师快速恢复生产。
3. 新产品与工艺开发：
· 支持研发部门进行新产品的光刻工艺开发与验证，负责从研发到量产的光刻工艺转移。
· 参与新工艺、新材料的评估和导入，完成相关DOE实验设计及数据总结。
4. 技术文档与标准化：
· 编写和更新光刻工艺操作指导书（SOP）、设备操作规范、工艺控制计划（Control Plan）等关键技术文档。
· 建立和完善光刻工艺的知识库，沉淀技术经验。

（二）任职要求：
1.硕士及以上学历，微电子、半导体物理、材料、光电、等相关工程专业。具备3-5年及以上半导体晶圆制造厂光刻工艺工程师经验。
2.拥有丰富的佳能（Canon）和尼康（Nikon）光刻机实际操作与工艺维护经验，熟悉其系统架构和软件操作。
3.理解光刻工艺原理，熟悉黄光区整体流程（涂胶、曝光、显影、量测等）。具备强大的数据分析能力，能熟练使用相关软件（如JMP, Minitab等）进行SPC分析和DOE实验设计。
4.具备独立解决复杂工艺问题的能力，思维清晰，有强烈的责任心和严谨的工作态度。良好的团队沟通和协作能力。
5.优先考虑有化合物半导体（如GaAs, InP）或MEMS光刻工艺经验者优先。有新产线建设、新机台装机（Installation）与调试（Commissioning）经验者优先。