岗位职责：

1、 负责MEMS 光刻工艺及匀胶显影工艺段湿法工艺管理

2、负责维护光刻工艺稳定、光刻机设备的稳定，制定并执行FMEA要求
3、解决光刻工艺的CD异常处理，光刻胶的profile优化，根据异常结果调整光刻工艺参数，了解常用的光刻胶型号，根据不同产品要求选择不同型号的光刻胶。
4、 负责部分新工艺的开发和导入工作， 负责对产线人员的操作培训及作业指导
5、 完成上级安排的其他任务

职位要求：
1.本科及以上学历，材料、物理、化学、机械等理工科专业均可.
2.具有2年以上光刻 (激光直写光刻机机型) 经验者佳，熟练光刻机台工艺步骤，有独立项目导入经验。
3.具有团队协作意识，服从领导，有良好的沟通、学习能力，抗压能力强，吃苦耐劳.