理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司创立于2013年5月，位于国家级上海松江经济技术开发区。公司以化学气相沉积技术为核心，专业从事泛半导体领域高端装备的研制与销售，致力成为领先的高端装备研制企业。目前，公司形成研发与管理中心在上海松江，生产制造中心在浙江海宁的双基地运营模式，产值规模10亿元以上。 理想晶延依托国家特聘专家领衔的研发团队，将国际先进原子层沉积（ALD）技术应用于光伏电池钝化薄膜沉积，自主创新出行业首台空间型平板式原子层沉积工艺设备，有效推动PERC、TOPCon、钙钛矿等高效太阳电池研发与规模化量产，获得行业国内外一线企业批量重复应用。 理想晶延ALD设备充分利用ALD技术通过原子层量级控制材料生长的机理，具有无绕镀、大面积成膜致密、膜层均匀的特点，其中自主研制的前驱体蒸发源系统配套独特的喷淋工艺气场，能有效保证电池量产膜厚可控、膜层均匀一致；平板In-Line设备结构、水平镀膜工艺镀膜无绕镀，更适合大面积钙钛矿电池薄膜沉积；稳定的载板摇摆控制系统，快速的沉积速率，可显著降低工艺时间和生产成本，整套设备极大程度提升了客户研发能力、高效生产以及创收盈利。理想晶延ALD设备已累计出货400余台，在太阳电池薄膜沉积设备市场占有率超过45%。 2021年公司全新推出管式PECVD镀膜设备、PE-Poly Si设备、低压扩散设备等系列新产品，业界独创镀膜、热处理工艺以及超高设备产能，为高效TOPCon电池大规模产业化增添强劲动力。2022年，公司率先推出针对钙钛矿电池原子层沉积设备，有效应对电池技术研发、中试和量产。2023年，公司全新开发半片电池侧壁钝化EPD设备，助力光伏电池进一步提效，已获得良好验证。系列设备产品进一步赋能光伏产业降本增效，助力国家“碳达峰 碳中和”战略目标。 为响应国家致力发展新产业规划及先进显示市场需求，公司于2024年积极探索向OLED显示领域转型升级，项目计划研制的产品为OLED显示用PECVD薄膜沉积高端装备产品。做OLED显示屏行业高端镀膜设备国内国产替代的“领头雁”，引领行业高质量发展。 理想晶延坚持自主创新推动高端装备实现进口替代，践行绿色低碳发展，奉献可再生能源，获得广泛关注和肯定。公司累计申请国家专利140余项，获授权发明专利39项，先后荣获国家高新技术企业、国家专精特新“小巨人”企业，以及获得上海市科技小巨人企业、上海市企业技术中心、上海市专利工作试点企业、上海“张江之星”成长型企业、松江区质量创新奖、松江区科技创新先进单位等资质荣誉