职责描述：
1、光刻与激光直写工艺开发： 负责光刻和激光直写工艺的开发、优化与维护，确保工艺的稳定性和高效性。
2、光路设计与搭建： 根据项目需求，设计并搭建光路系统，包括光学器件的选型、布局和调试，确保光路系统的性能满足设计要求。
3、 工艺性能提升： 通过实验设计（DOE）制定实验方案，分析实验数据，持续提升器件性能和工艺良率。
4、技术前沿跟踪： 持续关注光刻和激光直写领域的最新技术发展，推动新工艺和新技术的应用。
任职要求：
1） 教育背景： 物理、应用物理、光学工程、材料学等相关专业硕士或博士学历。3年以上工作经验优先
2） 专业技能： o 扎实的光刻和激光直写技术基础，熟悉光刻、电子束直写工艺。 o 具备光路设计与搭建经验，熟悉光学器件的选型、布局和调试。 o 具备微纳加工工艺开发经验，熟悉镀膜（如磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发等）和刻蚀（如湿法、RIE、ICP等）工艺。
3） 分析与解决问题能力： 具备独立分析和解决复杂工艺问题的能力，对挑战性问题充满热情。
4） 沟通与团队合作： 良好的沟通能力和团队合作精神，能够与不同部门有效协作。
5）经验要求： 有相关实验室实践经验或在知名公司/实验室进行相关方向实习的经验者优先。
6）其他： 工作细致，有责任心，具备良好的学习能力和创新意识。