岗位概述
负责光刻胶涂布、显影、曝光等黄光工艺的研发与优化，支持半导体等领域技术的创新与应用。

核心职责

• 开展光刻胶材料、涂胶工艺、曝光参数等实验研究与技术开发。

• 优化光刻工艺流程，提升图形分辨率、均匀性与缺陷控制水平。

• 参与光刻设备评估与工艺整合，支持新产品试制与良率提升。

• 撰写工艺文档、实验报告与技术专利。

任职要求

• 硕士及以上学历，微电子、化学、材料、光电、高分子等相关专业。

• 了解光刻工艺基本原理，有涂胶、曝光、显影等实验经验者优先。

• 具备良好的实验设计与数据分析能力。

• 责任心强，具备良好的团队协作与沟通能力。