1.主导光学邻近效应校正（OPC）模型与配方的开发、验证及优化，解决先进工艺节点下的图形失真问题。
2.分析晶圆数据，识别并解决光刻工艺中的缺陷和难点，与光刻、刻蚀等团队协作提升整体工艺良率和效率。
3.建立、优化并标准化OPC工作流程，编写Python或Perl脚本实现任务自动化，以提升工作效率和准确性。
4.作为技术核心，与设计、工艺、光罩厂等多部门紧密协作，并提供必要的技术支持与培训。

1.本科及以上学历，光学、物理、微电子、电子工程、化学工程或材料科学等相关专业
2.精通OPC原理与流程，熟悉基于规则的OPC和基于模型的OPC；掌握主流EDA工具，如Synopsys或Mentor的OPC工具。
3..深刻理解光刻工艺及半导体制造流程，熟悉KrF/ArF光刻机工作原理及相关量测设备。
4.具备较强的编程能力，熟悉Linux操作系统，能使用脚本语言开发自动化工具。
5.具备卓越的沟通能力、团队合作精神、分析及解决问题能力。部分岗位要求流利的英语沟通能力。
6.5年以上半导体行业OPC或光刻技术相关经验。