1.负责光刻掩模版的制造工艺开发与维护，管理从图形数据到成品出货的全流程。
2.优化工艺参数，监控并提升掩模版的关键性能指标（如 CD 均匀性、缺陷控制等）。
3.负责相关设备的工艺配方调试与日常维护，及时解决生产中遇到的工艺与缺陷问题。
4.与光刻团队协作，进行新材料的掩模版工艺适配性验证。

任职要求：

1.本科及以上学历，微电子、机械、物理、材料等相关专业。
2.具备 3 年以上掩模版制造工艺或半导体光刻相关经验。
3.有主流掩模版厂工作经验或熟悉 OPC、PSM 等先进技术者优先。
4.了解掩模版检测标准与流程，能适应洁净室工作环境。
5.具备较强的质量意识和分析解决问题的能力。