主要负责光学临近修正（OPC）技术的研发和应用，专注于优化光刻工艺，确保设计图形在制造中精确转移：
核心职责包括：

‌1、模型开发与验证‌：建立光刻过程的物理模型，分析光学衍射效应，校正设计图形与实际制造结果之间的偏差；同时设计测试图形，收集SEM数据验证模型准确性，确保模型可靠性和稳定性

2、‌工艺优化与问题解决‌：针对量产中的缺陷问题，优化OPC菜单和掩膜配方，解决弱点和缺陷；包括设计测试掩膜、分析晶圆数据，并与光刻、刻蚀等团队协作，提供技术方案以提升制造流程效率和质量。

3、流程建立与标准化‌：参与OPC标准流程的制定、改进和转移，例如协助研发部门到光罩厂的技术转让，确保OPC数据按期高质量交付，并优化生产周期以减少延迟。

4、自动化与技术支持‌：编写Python或Perl等脚本实现工作流程自动化，提升效率和准确性；为客户提供软件使用培训、现场技术支持，并作为客户与内部开发团队的沟通桥梁，解决工艺研发中的挑战。

5、跨团队协作与创新‌：与上下游部门紧密配合，监控测试进度和模型质量；同时追踪行业前沿技术，参与OPC软件产品的定义和优化，推动新方法开发以应对先进工艺需求