1.负责镀膜（APCVD/LPCVD/CVD/ALD/PECVD）工艺开发及优化，提升CVD制程能力和品质.
2.分析处理与薄膜相关的工艺异常，器件失效，成品率提升等
3.负责对应CVD新机台，新工艺、新技术和新产品验证，为项目提供技术支持并进行DOE评估验证.
4. 面向未来研究半导体薄膜新材料，纳米镀膜新工艺，低维材料性能新表征
任职要求:
1.硕士或博士学历，无机材料镀膜，纳米制造技术, 物理，固体电子学，热处理，晶体结晶与力学，低温等离子体，微流体，射频电源，传热学等专业方向优先
2.有3年以上Array CVD工作经验，具备PECVD、SiN、SiO等相关工艺开发经验；
3.熟悉AKT CVD设备和工艺原理，能处理设备和工艺异常，能独立分析调整膜质并达到器件要求, 会使用office工具和minitab进行数据分析，撰写分析总结报告；诚实严谨，能吃苦耐劳，具有极强的敬业精神和责任心
4.具有高校/研究所完整纵向课题经验者可放宽学历要求； 有半导体行业，面板企业 FAB 经验者可放宽学历要求
5.熟悉CVD(APCVD, PECVD TFE)工艺开发流程，具备良好的工艺recipe开发能力，能够针对性地编写沉积recipe；特别是熟悉 SiON, SiO2 以及 SiNx 的工艺条件，具备独立开发相应 recipe 的能力更优先考虑，可以放宽条件。
流利的英文读写，交流。